精密光学技术发展水平分析

目前，光学加工工艺主要包括切割、铣磨、精磨、抛光、磨边、胶合、镀膜等工 艺环节。
超精密加工技术是先进装备制造的关键性瓶颈技术，纳米精度被誉为超精密加工 技术“皇冠上的明珠”。超精密光学器件的制造体系，由超精密光学加工、超精密光 学检测和超精密光学表面处理等环节构成。超精密光学器件的制造技术可以分为触式 和非接触式两大类，在接触式制造技术中，最具代表性的方法是数控研磨抛光 （CCP），单点金刚石切削（SPDT）以及磁流变抛光（MRF）技术。在非接触制造中， 具有重要应用价值的方法包括磨料射流抛光（FJP）、等离子体成型（PACE）和离子 束抛光（IBF）等技术。目前我国已初步建立了包括CCP、MRF、IBF、SPDT 等技术 在内的超精密光学制造技术体系。
超精密光学器件制造涉及的重要技术之一就是表面镀膜技术，通过镀膜以提高透 反射、偏振及强激光耐受等能力。为此，需要积极发展新型的等离子体镀膜技术、离 子束镀膜技术、激光束镀膜技术和平片的化学气相沉积技术，并积极研究新的薄膜材 料与结构体系以及新的薄膜器件设计与检测技术。这些技术的发展对于提高和保障超 精密光学器件的实际应用水平至关重要。
此外，随着制造能力的不断提升，超精密光学器件的检测技术问题已经逐渐成为 限制制造技术发展的瓶颈。目前，超精密光学器件的检测主要指面型检测和粗糙度检 测两个方面。面型检测主要使用轮廓仪和干涉仪，高精度轮廓检测和干涉检测设备几 乎全部依赖进口，因而迫切需要通过自主研发或者技术引进等方式降低依赖性。