2022-2028年中国原子层沉积（ALD）设备市场动态聚焦与投资前景市场调查报告

报告摘要

原子层沉积(ALD)是一种高精度的薄膜沉积技术，它可以实现薄膜的逐层沉积。我们自主设计的ALD可以实现各种氧化物、氮化物和硫化物的沉积。空气回路设计灵活可调，反应时间短(单周期<10s，单反应时间<50ms)。该复合体系可实现低温等离子体表面处理、低温原子层沉积、高温原子层沉积和等离子体辅助沉积等多种功能。
原子层沉积，ALD 是一种适合于研制最新的和前沿性的产品的薄膜制备技术。原子层沉积 ALD 也是一种用于纳米技术研究的有效方法。典型的原子层沉积应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜.
ALD 是一种化学气相沉积(CVD)技术。它最初被用于生产纳米结构的绝缘体(Al2O3/TiO2)和薄膜电致发光显示器（TFEL）的硫化锌(ZnS)发光层。得益于ALD 技术的发展，此类显示器在80年代中期开始大规模生产。ALD 技术特有的属性和工艺的高可重复性是促使工业化生产成功的关键因素。

报告目录

2022-2028年中国原子层沉积（ALD）设备市场动态聚焦与投资前景市场调查报告
第一章 原子层沉积（ALD）设备行业综述
第二章 原子层沉积（ALD）技术分析
第一节 原子层沉积（ALD）流程
第二节 原子层沉积（ALD）与技术特点
第三节 原子层沉积（ALD）与化学气相沉积（CVD）
第四节 原子层沉积（ALD）沉积材料类型
第五节 原子层沉积（ALD）设备配置
第六节 原子层沉积（ALD）技术应用
第七节 原子层沉积（ALD）专利申请及公开情况
第八节 原子层沉积（ALD）技术趋势
第三章全球原子层沉积（ALD）设备行业发展现状
第一节 全球原子层沉积（ALD）设备行业发展历程介绍
第二节 全球原子层沉积（ALD）技术发展现状分析
第三节 全球原子层沉积（ALD）设备行业发展现状分析
第四节 全球原子层沉积（ALD）设备行业市场规模体量
第五节 全球原子层沉积（ALD）设备行业市场竞争格局
第六节 全球原子层沉积（ALD）设备行业发展趋势分析
第七节 全球原子层沉积（ALD）设备行业发展经验借鉴
第四章中国原子层沉积（ALD）设备行业发展现状
第一节 中国原子层沉积（ALD）设备行业发展历程
第二节 中国薄膜沉积设备行业对外贸易状况
第三节 中国原子层沉积（ALD）设备行业企业市场类型及入场方式
第四节 中国原子层沉积（ALD）设备行业市场供给状况
第五节 中国原子层沉积（ALD）设备行业招投标市场解读
第六节 中国原子层沉积（ALD）设备行业市场需求状况
第七节 中国原子层沉积（ALD）设备行业市场行情走势
第五章中国原子层沉积（ALD）设备行业竞争状况
第一节 中国原子层沉积（ALD）设备行业市场竞争布局状况
第二节 中国原子层沉积（ALD）设备行业市场竞争格局
第三节 中国原子层沉积（ALD）设备行业市场集中度分析
第四节 中国原子层沉积（ALD）设备行业波特五力模型分析
第五节 中国原子层沉积（ALD）设备行业投融资、兼并与重组状况
第六章中国原子层沉积（ALD）设备产业链全景梳理
第一节 原子层沉积（ALD）设备产业链结构梳理
第二节 原子层沉积（ALD）设备产业链生态图谱
第三节 原子层沉积（ALD）设备行业成本结构分析
第四节 中国半导体硅片市场分析
第五节 原子层沉积（ALD）沉积材料市场分析
第六节 原子层沉积（ALD）设备零部件市场分析
第七节 原子层沉积（ALD）细分设备市场发展分析
第七章中国原子层沉积（ALD）设备市场需求状况
第一节 中国原子层沉积（ALD）设备行业下游应用场景/行业领域分布
第二节 中国半导体领域原子层沉积（ALD）设备需求潜力分析
一、中国半导体行业发展现状及细分市场发展分析
二、 原子层沉积（ALD）设备在半导体领域的应用概述
三、原子层沉积（ALD）设备在半导体领域的应用现状
四、半导体薄膜工艺演进趋势及对原子层沉积（ALD）设备需求的影响分析
（1）逻辑芯片先进制程的发展
（2）存储芯片先进制程的发展
（3）多重图形技术的发展
（4）尺寸缩小和3D结构化的发展
五、 原子层沉积（ALD）设备在泛半导体领域的应用前景
第三节 中国泛半导体领域（光伏、显示等）原子层沉积（ALD）设备需求潜力分析
第四节 中国环境和能源领域原子层沉积（ALD）设备需求潜力分析
第五节 其他领域原子层沉积（ALD）设备需求潜力分析
一、 原子层沉积（ALD）设备在航天航空领域的应用
二、 原子层沉积（ALD）设备在生物医药领域的应用
第八章全球及中国原子层沉积（ALD）设备企业布局案例研究
第一节 东京电子（TEL）
一、企业发展历程
二、企业发展状况
三、企业原子层沉积（ALD）设备业务布局现状
第二节 先晶半导体（ASMI）
第三节 应用材料（AMAT）
第四节 中国原子层沉积（ALD）设备企业布局案例分析
一、拓荆科技股份有限公司
二、北方华创科技集团股份有限公司
三、盛美半导体设备（上海）股份有限公司
四、北京屹唐半导体科技股份有限公司
五、江苏微导纳米科技股份有限公司
第九章中国原子层沉积（ALD）设备行业市场前景预测分析
第一节 中国原子层沉积（ALD）设备行业SWOT分析
第二节 中国原子层沉积（ALD）设备行业发展潜力评估
第三节 中国原子层沉积（ALD）设备行业发展前景预测
第四节 中国原子层沉积（ALD）设备行业发展趋势预判
第十章中国原子层沉积（ALD）设备行业投资战略及建议
第一节 中国原子层沉积（ALD）设备行业进入与退出壁垒
第二节 中国原子层沉积（ALD）设备行业投资风险预警
第三节 中国原子层沉积（ALD）设备行业投资价值评估
第四节 中国原子层沉积（ALD）设备行业投资机会分析
第五节 中国原子层沉积（ALD）设备行业投资策略与建议
第六节 中国原子层沉积（ALD）设备行业可持续发展建议