光刻胶是由感光树脂、光引发剂、溶剂三种主要成分和其他助剂组成的对光敏感的混合液体，是通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X 射线等光照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。感光树脂构成光刻胶的基本骨架，主要决定曝光后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、曝光前和曝光后对特定溶剂的溶解度；光引发剂对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用；溶剂用于溶解光刻胶各组成成分，也是后续光刻胶化学反应的介质。
助剂是指根据不同用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。
光刻胶种类繁多，根据其化学反应机理和显影原理，可分为正性光刻胶和负性光刻胶两类。对显影液不可溶，经光照后变成可溶物质的即为正性光刻胶；反之，光照后形成不可溶物质的是负性光刻胶，具体如下图所示：
根据应用领域，光刻胶可分为集成电路光刻胶（可细分为晶圆制造、先进封装）、显示面板光刻胶和PCB 光刻胶，其技术壁垒依次降低。PCB 光刻胶是目前国产替代进度最快的产品；显示面板中LCD 光刻胶替代进度相对较快，OLED 光刻胶仍由国外企业垄断；集成电路光刻胶目前国产技术较国外先进技术差距较大。
