功能湿化学品行业主要生产企业介绍

在功能湿化学品及光刻胶领域，国外企业的优势明显，先进封装用电镀化学品及光刻胶产品中国外企业更是占据的市场主导地位，全球主要供应商均为国际公司，包括美国杜邦、日本JSR、日本TOK、德国Merck 等。
功能湿化学品及光刻胶的技术门槛高，国内化学品企业市场份额与国际领先相比差距较大，目前国内能量产并形成供应的仅有电镀液、硅蚀刻液、28nm以上技术节点用各类光刻胶去除剂等。中国电子材料行业协会的数据。2021 年，我国集成电路用湿化学品整体国产化率达到35%，i/g 线光刻胶领域国产化率不足20%，KrF 光刻胶整体国产化率不足2%，ArF/ArFi 光刻胶整体国产化率不足1%。
（1）美国杜邦（DuPont de Nemours,Inc.）
美国杜邦（原名陶氏杜邦）系2017 年8 月，陶氏化学与杜邦公司完成对等合并后的一家控股公司。2019 年陶氏杜邦（DowDuPont Inc.）拆分为陶氏（DOW Inc.）、杜邦（Dupont de Nemours, Inc.）及科迪华农业科技（CortevaAgriscience）三家企业。美国杜邦公司从事包括化工、材料、膜产品等在内的综合业务范围，集中了原陶氏、原杜邦的特种产品业务，包括封装材料及解决方案。
（2）日本石原（Ishihara Chemical Co.,LTD）
石原化学株式会社成立于1900 年，员工数264 人。日本石原是一家从事金属表面处理剂和设备、电子材料、汽车化工产品及工业化工产品的开发、制造和销售的公司。公司的金属表面处理剂（电镀液）用于以锡焊结合为目的的表面处理。
（3）日本JSR
日本合成橡胶公司（JSR）总部位于日本东京，员工数5,500 多人。产品包括合成橡胶，乳胶和合成树脂等石油化学类化学品。产品涉及电子、精密加工、半导体、新能源、环境、医药等行业。日本JSR 半导体部门致力于光刻胶和其它周边的材料、研磨液等CMP 材料的开发、制造和销售，为半导体光刻胶的重要海外供应商之一。
（4）德国Merck（Merck KGaA）
德国Merck 创建于1668 年，总部位于德国达姆施塔特市（Darmstadt），下设有显示材料事业部、颜料和功能性材料事业部、先进技术事业部和集成电路材料事业部。2014 年，公司完成了对国际化工知名制造商安智电子材料（AZ）的收购，进一步扩大了其在亚洲市场的布局。德国默克在国内显示领域光刻胶市场占有较高的市场份额。
（5）上海新阳
上海新阳半导体材料股份有限公司成立于2004 年，深圳证券交易所上市公司，总部位于上海。上海新阳主要从事半导体行业所需电子化学品的研发、生产和销售，同时开发配套的专用设备，主要产品包括晶圆制造及先进封装用电镀液及添加剂系列产品、晶圆制造用清洗液系列产品、半导体封装用电子化学材料等。
（6）安集科技
安集微电子科技（上海）股份有限公司成立于2006 年，是一家集研发、生产、销售、服务为一体的自主创新型高科技微电子材料企业，主营业务为关键半导体材料的研发和产业化。公司产品包括不同系列的化学机械抛光液和光刻胶去除剂，主要应用于集成电路制造和先进封装领域。
（7）晶瑞电材
晶瑞电子材料股份有限公司成立于2001 年，是一家微电子材料的平台型高新技术企业，围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向，主导产品包括光刻胶及配套材料、超净高纯化学品、锂电池材料和基础化工材料等，广泛应用于半导体、新能源等行业，主要应用到下游电子产品生产过程的光刻、显影、蚀刻、清洗、去膜、浆料制备等工艺环节，其光刻胶产品由其子公司苏州瑞红生产。
（8）三孚新科
广州三孚新材料科技股份有限公司成立于2009 年，是一家表面工程专用化学品提供商，主要从事表面工程技术的研究及新型环保表面工程专用化学品的研发、生产和销售。三孚新科的主要产品有电子化学品及通用电镀化学品，具体包括PCB 水平沉铜专用化学品、PCB 化学镍金专用化学品、高耐蚀化学镍专用化学品、装饰性电镀添加剂等。